Venüscon® İmplant - Dental İmplantta Yenilik

VenüsCon®

Tüm ihtiyaçlara uygun olarak geliştirilmiş, özel implant sistemi

Çap ve Boy Özellikleri

Teknik Özellikler

Osseointegrasyon

Sterilizasyon

Venüscon® İmplant Özellikleri

Venüscon diş implant sistemleri, farklı kemik yapıları ve klinik durumlar için ideal çap seçenekleri sunar. 3.2mm – 5.0mm arasında değişen çapları, stabiliteyi artırırken biyomekanik uyumu optimize eder. Her çap seçeneği, üst yapı entegrasyonu için 2.3mm platform ile tasarlanmıştır. Bu sayede cerrahlara geniş bir esneklik, hastalara ise uzun ömürlü ve güvenilir bir tedavi imkanı sunar.

Venüscon implantları, farklı klinik ihtiyaçlara ve kemiğin anatomik yapısına uygun olarak çeşitli boy ve çap seçenekleri sunar. Yüksek stabilite sağlayan tasarımı ve Titanyum Ti6AI4V ELI (Grade 23) yapısıyla güvenilir bir çözüm sunar. 6mm’den 16mm’ye kadar değişen uzunlukları, minimal invaziv prosedürlerden ileri cerrahi uygulamalara kadar geniş bir kullanım alanı sağlar. Hastalarınız için maksimum başarı ve uyum!

Titanyum Ti6AI4V ELI (Grade 23)

Tüm VenüsCon implantları alaşımlı Titanyum Ti6AI4V ELI (Grade 23)’den üretilmiştir. Bu alaşımın başlıca kemik ile neredeyse tamamen bütünleşme yeteneğinden dolayı implant üretimi için ideal malzeme olduğu kanıtlanmıştır. Aynı zamanda biyolojik olarak parçalanabilir, mukavemet ve dayanıklılık gibi üstün mekanik niteliklerin yanı sıra Kimyasal Stabilite sunar. Mekaniksel kuvvetler açısından Grade 4’e oranla %40 daha dayanıklıdır.

Detaylı Yüzey Özellikleri

İstenilen pürüzlülüğü elde etmek için, implanta uygun sertleştirilmiş Hidroksipatit (beta-Trikalsiyum Fosfat, Alpha Tcp, Ttcp ve Kalsiyum Fosfat (CPP) partikülleri ile kumlanır ve ardından tanımlanmış bir pasivasyon işlemi ile yüzeyden çözülür. Araştırma raporları dental implantlarda yüzey pürüzlülüğünün minimum (en az) Ra 1-1.5 μm olmasının ideal yüzeyi oluşturduğunu gösteriyor.

VenüsCon ürünlerine yapılan yüzey pürüzlülük analizleri sonucunda Ra değerlerinin kabul edilmiş olan 1-1.5 μm ın üzerinde olduğu ve bunun da kemik-implant temasını oldukça fazla arttıracağı ön görülmüştür. VenusCon implantların yüzey pürüzlülüğü Ra 2-2.5 μm olacak şekilde gerçekleştirilmektedir.

VenüsCon İmplantların yüzeyi ince bir Titanyum Oksit (TiO2) tabaka ile kaplanmıştır. Ayrıca RBM (Resorbable Blast Media) işlemi ile yüzey pürüzlendirme gerçekleşmiştir. Bu geliştirilmiş yüzey teknolojisi için Kalsiyum Fosfat kullanılmıştır. Kalsiyum Fosfat biyouyumlu bir malzemedir. Bu işlem ile implant yüzey alanı arttırılarak daha fazla kemik implant temas alanı elde edilmiştir.

Bu yüzey işlemi implantın üzerinde artık gömülü kum partikülleri veya kalıntı bırakmadan implant yüzeyini pürüzlendirmek için tasarlanmıştır. Bu işlemle makro topografya oluşturmak için implantın yüzeyinin Kalsiyum Fosfat malzeme ile kumlanmasını ve ardından gömülü Hidroksipatit Partiküllerinin ortamdan uzaklaştırılması için pasivasyon işlemin yapılmasını içerir.

Sonuç olarak, Osseointegrasyon için daha büyük bir yüzey alanı, iyileştirilmiş tutunma özellikleri, artan biyolojik sabitleme ve implant-kemik temasını en üst düzeye çıkaran geleneksel asitle aşındırma işleminden daha pürüzlü bir implant yüzeyi elde edilmektedir.

VenüsCon Kemik Seviyeli İmplantları birçok endikasyon için mükemmel estetik ve doğallık sunar.

Tüm VenüsCon İmplantları alaşımlı Titanyum Ti6Al4V ELI (Grade 23)’den üretilmiştir. Bu alaşımın başlıca kemik ile neredeyse tamamen bütünleşme yeteneğinden dolayı implant üretimi için ideal malzeme olduğu kanıtlanmıştır. Aynı zamanda biyolojik olarak parçalanabilir, mukavemet ve dayanaklılık gibi üstün mekanik niteliklerin yanı sıra Kimyasal Stabilite sunar. Mekaniksel kuvvetler açısından Grade 4’e oranla %40 daha dayanıkldır.

VenüsCon İmplantların yüzeyi ince bir Titanyum Oksit (TiO2) tabaka ile kaplanmıştır. Ayrıca RBM (Resorbable Blast Media) işlemi ile yüzey pürüzlendirme gerçekleşmiştir. Bu geliştirilmiş yüzey teknolojisi için Kalsiyum Fosfat kullanılmıştır. Kalsiyum Fosfat biyouyumlu bir malzemedir. Bu işlem ile implant yüzey alanı arttırılarak daha fazla kemik implant temas alanı elde edilmiştir.